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某单位6/4"晶圆匀胶显影机更正公告
*一、项目基本情况

原公告的采购项目编号:ZKGSF(ZB)-20251131      

原公告的采购项目名称:6/4"晶圆匀胶显影机      

首次公告日期:2025年07月14日      

二、更正信息

更正事项:采购文件

更正内容:

原招标文件:

1、提交投标文件截止时间:2025年08月04日 14点00分;开标时间:2025年08月04日 14点00分

2、第五章  采购需求一览表及要求 三、技术要求 4. 各部品技术要求

4.1 主机:

#4.1.1 封闭式主机,用于提升小环境洁净度;

4.1.2 配备屏幕显示器,由计算机进行工艺参数设定,具有专用控制软件。软件具有工艺参数设置、设备控制、硬件自我故障诊断与检测功能,触摸屏控制操作方便快捷。

4.2 匀胶系统:

★4.2.1 最大转速:≥5000RPM;

4.2.2 最大加速度:≥20000RPM/s;

★4.2.3 转速精度:±1RPM;

#4.2.4 滴胶范围和精度:0.8~8ml±0.2ml;

#4.2.5 背面清洗:背面距离边缘≥10mm无残留;

4.2.6 夹持方式:真空吸附;

4.2.7 具备胶嘴自动清洗功能;

4.2.8 承片台具备正反转功能。

4.3 显影系统:

★4.3.1 最大转速:≥4000RPM;

4.3.2 最大加速度:≥8000RPM/s;

★4.3.3 转速精度:±1RPM

#4.3.4 流量控制:0~0.5L/min;

4.3.5 流量控制精度:±0.1L/min;

4.3.6 夹持方式:真空吸附。

4.4 自动传送系统:

#4.4.1 重复定位精度:±0.1mm;

#4.4.2 对中精度:±0.2mm;

4.4.3 取片方式:真空吸附。

4.5 加热烘烤系统:

★4.5.1 热盘数量:≥2;

★4.5.2 温度控制范围:50℃~180℃;

#4.5.3 温度控制均匀性:±1℃;

4.5.4 冷却方式:自然冷却。

4.6 片盒:片盒位置≥2个位置。

4.7 化学品柜:配备单独化学品柜,用于放置光刻胶、显影液等化学品。

现更正为:

1、提交投标文件截止时间:2025年8月12日 14点00分;开标时间:2025年8月12日 14点00分。

2、第五章  采购需求一览表及要求 三、技术要求 4. 各部品技术要求

4.1 主机:

#4.1.1 封闭式主机,用于提升小环境洁净度;

4.1.2 配备屏幕显示器,由计算机进行工艺参数设定,具有专用控制软件。软件具有工艺参数设置、设备控制、硬件自我故障诊断与检测功能,触摸屏控制操作方便快捷。

4.2 匀胶系统:

★4.2.1 最大转速:≥5000RPM;

4.2.2 最大加速度:≥20000RPM/s;

★4.2.3 转速精度:±1RPM;

#4.2.4 滴胶范围和精度:1~4ml±0.1ml;

#4.2.5 背面清洗:背面距离边缘≥10mm无残留;

4.2.6 夹持方式:真空吸附;

4.2.7 具备胶嘴自动清洗功能;

4.2.8 承片台具备正反转功能;

#4.2.9 光刻胶管路数量≥2,可满足不同粘度光刻胶使用需求:胶路1适配低粘度光刻胶,适配范围1~200cp;胶路2适配高粘度光刻胶,适配范围200~1500cp;

4.2.10 光刻胶溶剂(solvent)采用单压力罐供液,压力罐容积≥8L;具备过滤功能,过滤精度≤0.2μm。

4.3 显影系统:

★4.3.1 最大转速:≥4000RPM;

4.3.2 最大加速度:≥8000RPM/s;

★4.3.3 转速精度:±1RPM

#4.3.4 流量控制:0~0.4L/min或更大范围;

4.3.5 流量控制精度:±0.1L/min;

4.3.6 夹持方式:真空吸附;

#4.3.7 管路数量≥2,应包含一路碱性显影液,一路去离子水;

4.3.8 碱性显影液采用单压力罐供液,压力罐容积≥8L;具备过滤功能,过滤精度≤0.2μm; 

4.3.9 去离子水由采购人提供,去离子水管路应具备过滤功能,过滤精度≤0.2μm。

4.4 自动传送系统:

#4.4.1 重复定位精度:±0.1mm;

#4.4.2 对中精度:±0.2mm;

4.4.3 取片方式:真空吸附。

4.5 加热烘烤系统:

★4.5.1 热盘数量:≥2;

★4.5.2 温度控制范围:50℃~180℃;

#4.5.3 温度控制均匀性:50℃~120℃±0.8℃;120.1℃~180℃±1.5℃;

4.5.4 冷却方式:自然冷却;

4.5.5 单独配置HMDS(六甲基二硅氮烷)热盘,数量≥1,温度控制范围50℃~150℃,温度控制均匀性50℃~120℃±0.8℃、120.1℃~150℃±1.5℃。

4.6 冷盘:

★4.6.1 冷盘数量:≥2;

4.6.2 温度控制范围:20℃~28℃;

4.6.3 温度控制均匀性:±0.2℃。

4.7 片盒:片盒位置≥2个位置。

4.8 化学品柜:配备单独化学品柜,用于放置光刻胶、显影液等化学品;若机台能够装下使用所需的胶路与胶瓶,可不配备化学品柜。

4.9 视频监控模块:匀胶、显影等腔体以及传输机器人处,应配备视频监控模块,视频数据可保存30天或以上。

#4.10 根据工艺需求的预留空间,设备占地面积应≤1600mm×1200mm;根据层高及消防要求,设备高度应≤2500mm。

四、商务条件及其他要求

3.3 验收标准:

3.3.1 涂胶均匀性:1μm厚时均匀性≤1%,3μm厚时均匀性≤1.5%;

3.3.2 显影均匀性:图案线宽为1μm时,均匀性≤3%;

3.3.3 传片稳定性:5000片晶圆连续传片无设备非正常报警;

3.3.4 碎片率:0.01%;

3.3.5 对符合工艺标准的试剂和去离子水,过滤后0.2μm以上的颗粒增量≤20颗。

更正日期:2025年07月28日 

三、其他补充事宜

本更正公告作为招标文件的组成部分之一,对各相关投标人均具有同等约束力,与招标文件不一致的部分以本公告为准。本公告一经发布,视为投标人已收到。

四、凡对本次公告内容提出询问,**

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联系人:张晟

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